摘要: 本文介绍了用作器件的半导体硅片表面和本体中Na,Cu,Au含量的堆中子活化分析方法。给出了探测极限。除了常用的“相对比较法”外,着重介绍了“代用标准法”。为了适应常规分析的要求,我们以铁丝作Cu和Na的代用标准,使照后的标准处理摆脱了放射性溶液操作。